Dull cynhyrchu ffilm ymestyn

Epitaxy pelydr moleciwlaidd. Mae epitaxy trawst moleciwlaidd yn ddull y mae gweithgynhyrchwyr ffilm ymestyn yn defnyddio trawstiau moleciwlaidd i dyfu mewn unedau ultrafiltration. Mae epitaxy trawst moleciwlaidd (MBE) yn cael ei wneud o dan bwmp gwactod (UHV), sy'n sicrhau bod gan epitaxy trawst moleciwlaidd lwybr mawr heb gymedrig a gellir ei daflunio ar wyneb y swbstrad yn ôl y cynllun dylunio.
Mae'n nodwedd o MBE, yn wahanol i ddulliau twf ffilm estynedig eraill, mae gan y dull hwn lawer o fanteision: Gall integreiddio synwyryddion sydd angen safon pwmp gwactod uchel i feddalwedd system twf epitaxy. Mae astudiaethau gwyddonol o egwyddorion twf epitaxial wedi dangos y safon. Gellir rheoli trwch yr haen epitaxial yn fanwl gywir, a gall yr arwyneb twf neu'r dudalen gyflawni sglein moleciwlaidd, gan ganiatáu cynhyrchu ffilmiau estynedig. 2. Laser dull arosod pwls sengl. Mae'r dull dyddodiad un-pwls laser yn wahanol i'r ffilm denau ffugio anweddiad gwactod traddodiadol. Gall y laser godi tymheredd yr ardal arbelydredig i gyflymder a all wedyn gynhesu'r ardal arbelydredig o wresogi syml i losgi canhwyllau gyda thechnoleg plasma. Mae golau cannwyll yn cael ei daflu allan ar hyd cyfeiriad arferol yr wyneb, ac yn cynhyrchu gwrthdrawiadau hydwyth neu adlewyrchol â moleciwlau neu foleciwlau yn yr aer yn y siambr adlewyrchol.